現(xiàn)如今，信息技術(shù)加速迭代發(fā)展，電子芯片的發(fā)展成為了各界關(guān)注的焦點(diǎn)。隨著我國越來越多的產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)離不開芯片，人們開始認(rèn)識到芯片生產(chǎn)的重要性，而芯片的生產(chǎn)離不開超純水，今天我們就來介紹芯片生產(chǎn)需要的超純水是如何制備的。

　　據(jù)了解，一顆芯片要經(jīng)過幾十道工藝技術(shù)，每一道工藝或許都是代表著科技水平，因此芯片在生產(chǎn)過程中對于用水水質(zhì)的要求是非常高的，水中的雜質(zhì)對芯片的影響非常大。而超純水是指電阻率達(dá)到18 MΩ·cm的水，這種水中除了水分子外，幾乎沒有什么雜質(zhì)，可以滿足芯片生產(chǎn)用水需求。

　　那么，傳統(tǒng)的超純水制備工藝通常是采用離子交換樹脂進(jìn)行制取，但采用離子交換樹脂通常需要定期進(jìn)行樹脂再生，既耗費(fèi)物力又浪費(fèi)人工。目前，市面上主要采用的反滲透技術(shù)、EDI技術(shù)和拋光混床技術(shù)來制備超純水，該工藝與傳統(tǒng)工藝相比具有抗污染能力強(qiáng)、節(jié)能環(huán)保、產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定、脫鹽率高、系統(tǒng)內(nèi)無死水等優(yōu)勢。

　　使用上述工藝的超純水設(shè)備還具有良好的實(shí)用價(jià)值，可實(shí)現(xiàn)自動控制，從某種程度上而言，可以有效地達(dá)到我國電子級水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)，具有自動化程度高，過程易實(shí)現(xiàn)自動控制，產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定等優(yōu)勢。

　　綜上，隨著芯片研發(fā)技術(shù)的加快，我國要做的就是擺脫芯片進(jìn)口依賴，加強(qiáng)相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，為未來芯片技術(shù)的發(fā)展打好堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。